Μηχανή CrN Jet Black Coating, εξοπλισμός TiCN για μαύρη επίστρωση

Προσαρμογή για την ικανοποίηση της ειδικής σας ζήτησης
Τυποποίηση για μείωση του κόστους παραγωγής σας
-- Εστιάζουμε περισσότερο στις εφαρμογές
 
Επιστρώσεις μαύρου φιλμ 2-MultiTech- DLC IPG.pdfπαρακαλώ κατεβάστε το φυλλάδιο εδώ για περισσότερες πληροφορίες
 

Τι είναι το MF Sputtering;

Σε σύγκριση με τη διασκορπισμό DC και RF, η διασκορπισμός μεσαίας συχνότητας έχει γίνει μια κύρια τεχνική εκτόξευσης λεπτής μεμβράνης για μαζική παραγωγή επικαλύψεων, ιδιαίτερα για την εναπόθεση φιλμ διηλεκτρικών και μη αγώγιμων επικαλύψεων μεμβράνης σε επιφάνειες όπως οπτικές επιστρώσεις, ηλιακοί συλλέκτες, πολλαπλές στρώσεις , φιλμ σύνθετου υλικού κ.λπ.
Αντικαθιστά την εκτόξευση ραδιοσυχνοτήτων λόγω του ότι λειτουργεί με kHz αντί για MHz για πολύ ταχύτερο ρυθμό εναπόθεσης και επίσης μπορεί να αποφύγει τη δηλητηρίαση του στόχου κατά την εναπόθεση σύνθετης λεπτής μεμβράνης όπως το DC.

Οι στόχοι sputtering MF υπήρχαν πάντα με δύο σετ.Χρησιμοποιούνται δύο κάθοδοι με εναλλασσόμενο ρεύμα εναλλασσόμενου ρεύματος μεταξύ τους, το οποίο καθαρίζει την επιφάνεια στόχο με κάθε αναστροφή για να μειώσει τη συσσώρευση φορτίου στα διηλεκτρικά που οδηγεί σε τόξο που μπορεί να εκτοξεύσει σταγονίδια στο πλάσμα και να αποτρέψει την ομοιόμορφη ανάπτυξη λεπτής μεμβράνης --- που είναι αυτό που ονομάσαμε Target Poisoning.
 

Πηγές κατάθεσης
Πηγές κατευθυνόμενου κυκλικού τόξου για εξάτμιση στερεού μεταλλικού στόχου.
2/4/6 ζεύγη καθόδων εκτόξευσης κυλίνδρων MF για εναπόθεση στρώματος λεπτού φιλμ γραφίτη.
Τροφοδοτικό Bias για βομβαρδισμό ιόντων για σχηματισμό της περιοχής πλάσματος για προεπεξεργασία.
Ανοδική μονάδα γραμμικής πηγής ιόντων (για προαιρετική) επεξεργασία PACVD και PECVD.
Cryopump (Polycold) για μοριακή συμπύκνωση νερού (προαιρετικά)

Άλλες Ενότητες
1. Θάλαμος κενού
2. Σύστημα άντλησης κενού Rouhging (Πακέτο αντλίας υποστήριξης)
3. Σύστημα άντλησης υψηλού κενού (Μοριακή αντλία μαγνητικής ανάρτησης)
4. Σύστημα Ηλεκτρικού Ελέγχου και Λειτουργίας
5. Σύστημα Βοηθητικής Εγκατάστασης (Υποσύστημα)
6. Σύστημα εναπόθεσης: κάθοδος καθοδήγησης MF, τροφοδοτικό MF, Πηγή ιόντων τροφοδοσίας προκατάληψης για προαιρετική

Απόδοση μηχανής επίστρωσης

1. Τελική πίεση κενού: καλύτερη από 5,0×10-6Torr.
2. Πίεση κενού λειτουργίας: 1,0×10-4Torr.
3. Pumpingdown Time: από 1 atm έως 1,0×10-4Torr≤ 3 λεπτά (θερμοκρασία δωματίου, στεγνός, καθαρός και άδειος θάλαμος)
4. Υλικό επιμετάλλωσης (διασκορπισμός + εξάτμιση τόξου): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, κ.λπ.
5. Μοντέλο λειτουργίας: Πλήρης Αυτόματα /Ημιαυτόματο/ Χειροκίνητα

 
Αυτές οι διαμορφώσεις είναι στάνταρ, για μια συγκεκριμένη αναπτυσσόμενη αγορά και νέες ειδικές επιστρώσεις, οι προσαρμοσμένες διαμορφώσεις και τροποποιήσεις είναι διαθέσιμες κατόπιν αιτήματος.
 
 
 
Θέση σε λειτουργία προγράμματος εγκατάστασης συστήματος κενού
 

 
 
 
Επικοινωνήστε μαζί μας για περισσότερες προδιαγραφές, η Royal Technology έχει την τιμή να σας παρέχει ολοκληρωμένες λύσεις επίστρωσης.