Μηχάνημα επίστρωσης λεπτής μεμβράνης Magnetron / Nylon Textile Cu Conductive Film Coating Unit
1.Nylon Textile CopperMagnetron Sputtering Vacuum Coater
1) Η δυνατότητα ελέγχου του πάχους της μεμβράνης και η επαναληψιμότητα καλά, μπορεί να είναι ένα αξιόπιστο σύστημα προεπιμεταλλωμένου πάχους των μεμβρανών και ψεκασμού σε μια μεγαλύτερη επιφάνεια ομοιόμορφης μεμβράνης.
2) Η πρόσφυση της μεμβράνης και του υποστρώματος είναι πολύ καλή.Κάποια από την υψηλή ενέργεια των επιμεταλλόμενων ατόμων για την παραγωγή διαφορετικών επιπέδων του φαινομένου έγχυσης, το στρώμα ψευδο-διάχυσης σχηματίζεται στο στρώμα υποστρώματος των επιμεταλλόμενων ατόμων και τα άτομα υποστρώματος συντηγμένα μεταξύ τους.
3) Προετοιμασία ειδικού υλικού της μεμβράνης, μπορείτε να χρησιμοποιήσετε διαφορετικά υλικά και υβριδική μεμβράνη, σύνθετη μεμβράνη, μπορεί επίσης να διασκορπιστεί στη μεμβράνη απομίμησης χρυσού TiN.
2. Nylon Textile CopperMagnetron Sputtering Vacuum Coater Προδιαγραφές
| Μηχανή επίστρωσης Magnetron Sputtering | ||||||
| Εκτέλεση | RTSP-700 | RTSP-900 | RTSP-1000 | RTSP-1250 | RTSP-1400 | RTSP-1600 |
| Μέγεθος θαλάμου επικάλυψης | 700*H900mm | 900*Υ1100 χλστ | 1000*Υ1200 χλστ | 1250*Υ1350 χλστ | 1400*Υ1600 χλστ | 1600*Υ1800 χλστ |
| Τύπος τροφοδοσίας | Τροφοδοτικό νήμα, τροφοδοτικό παλμικής πόλωσης, τροφοδοτικό DC magnetron, τροφοδοτικό μάγνητρον ενδιάμεσης συχνότητας, τροφοδοτικό μαγνητρόν ραδιοσυχνοτήτων, πηγή γραμμικού ιονισμού | |||||
| Δομή του θαλάμου κενού | Κάθετη διπλή πόρτα, κατακόρυφη δομή μπροστινής πόρτας, σύστημα εξαγωγής αέρα πίσω | |||||
| Υλικό του θαλάμου κενού | Υψηλής ποιότητας κοιλότητα από ανοξείδωτο χάλυβα | |||||
| Περιορίστε το κενό | 6,0*10-4Pa | |||||
| Χρόνος άντλησης (χωρίς φορτίο) | Αντλήστε την ατμόσφαιρα στο 8,0*10-3>Pa ≤15 λεπτά | |||||
| Σύστημα λήψης κενού | Αντλία διάχυσης ή μοριακή αντλία + Αντλία ριζών + Μηχανική αντλία + περιστροφική αντλία πτερυγίων (το συγκεκριμένο μοντέλο μπορεί να διαμορφωθεί σύμφωνα με τις απαιτήσεις του πελάτη) | |||||
| Λειτουργία επίστρωσης | Επικάλυψη με ψεκασμό Magnetron | |||||
| Τύπος ταινίας | Μεταλλικό φιλμ, αντιδραστικό φιλμ, σύνθετο φιλμ, πολυστρωματικό φιλμ και φιλμ ημιαγωγών | |||||
| Τύπος στόχου Magnetron | Ορθογώνιος στόχος magnetron, κυλινδρικός στόχος magnetron και δίδυμοι στόχοι magnetron | |||||
| Ισχύς τροφοδοσίας μαγνητρονίου και αριθμός στόχων μαγνητρονίων | Επιλέξτε σύμφωνα με τη διαφορετική διαδικασία επίστρωσης και τις απαιτήσεις του πελάτη | |||||
| Μεροληπτικό τροφοδοτικό | 10KW/1 μονάδα | 20KW/1 μονάδα | 20KW/1 μονάδα | 30KW/1 μονάδα | 40KW/1 μονάδα | 50KW/1 μονάδα |
| Λειτουργία περιστροφής του περιστρεφόμενου δίσκου τεμαχίου εργασίας | Πλανητική περιστροφή και αυτόματη περιστροφή, ρύθμιση ταχύτητας μεταβλητής συχνότητας (ελεγχόμενη και ρυθμιζόμενη) | |||||
| Αέριο διεργασίας | Σύστημα ελέγχου και απεικόνισης ροής αερίου διεργασίας 3 ή 4 διαδρομών, σύστημα επιλεκτικής αυτόματης εξαέρωσης | |||||
| Λειτουργία ψύξης | Λειτουργία ψύξης κυκλοφορίας νερού, πύργος νερού ψύξης ή βιομηχανικός ψύκτης νερού ή σύστημα βαθιάς ψύξης.(Παρέχεται από πελάτες) | |||||
| Λειτουργία ελέγχου | Χειροκίνητη/αυτόματη λειτουργία ενσωμάτωσης, λειτουργία οθόνης αφής, PLC ή έλεγχος υπολογιστή | |||||
| Συνολική δύναμη | 30 KW | 35 KW | 40 KW | 50 KW | 65 KW | 80 KW |
| Συναγερμός και προστασία | Συναγερμός έλλειψης νερού, υπερένταση και υπέρταση, ανοιχτό κύκλωμα και άλλες μη φυσιολογικές συνθήκες αντλιών, στόχων κ.ο.κ. | |||||
| Περιοχή εξοπλισμού | Π2μ*Μ3μ | Π2,5μ*Μ3,5μ | Π3μ*Μ4μ | Π4μ*Μ5μ | Π4,5μ*Μ6μ | Π5μ*Μ7μ |
| Άλλες τεχνικές παράμετροι | Πίεση νερού ≥0,2MPa, Θερμοκρασία νερού ≤25°C, Πίεση αέρα: 0,5-0,8MPa | |||||
| Παρατηρήσεις | Η συγκεκριμένη διαμόρφωση του εξοπλισμού επίστρωσης μπορεί να σχεδιαστεί σύμφωνα με τις απαιτήσεις διαδικασίας των προϊόντων επίστρωσης | |||||
Nylon Textile CopperΔείγμα επίστρωσης κενού Magnetron Sputtering
Επικοινωνήστε μαζί μας για περισσότερες προδιαγραφές, η Royal Technology έχει την τιμή να σας παρέχει ολοκληρωμένες λύσεις επίστρωσης.
