Το πρώτο μηχάνημα σε εφαρμογή DPC στην Κίνα
Ιστορικό και Εισαγωγή Έργου:
1. Τον Αύγουστο του 2016, λάβαμε αίτημα πελάτη και ξεκινήσαμε την Ε&Α της διαδικασίας επίστρωσης
2. Τον Απρίλιο του 2017, το μηχάνημα εγκαταστάθηκε στο χώρο του πελάτη με επιτυχία.
3. Το 2018, βελτιώσαμε το σχεδιασμό και τις δομές, το μοντέλο DPC1215+, παραδόθηκαν 2 σετ στον πελάτη στο τέλος του 2018
Μοντέλο μηχανής: RT1200-DPC
Τεχνολογία:PVD+PECVD
Τοποθεσία:Κίνα
Εφαρμογή: Κεραμικά (Al3O2, AlN), γυάλινα και υποστρώματα Si,
Η ομάδα τεχνολογίας Royal συνεργάστηκε με τον πελάτη μας για την ανάπτυξη της διαδικασίας DPC με επιτυχία με την τεχνολογία PVD sputtering από το έτος 2016.
Η διαδικασία DPC- Direct Plating Copper είναι μια προηγμένη τεχνολογία επίστρωσης που εφαρμόζεται με βιομηχανίες LED, ημιαγωγών και ηλεκτρονικών.Μια τυπική εφαρμογή είναι το Ceramic Radiating Substrate.Εναπόθεση αγώγιμου φιλμ χαλκού σε υποστρώματα οξειδίου του αργιλίου (Al2O3), AlN με τεχνολογία PVD κενού sputtering, σε σύγκριση με τις παραδοσιακές μεθόδους κατασκευής: DBC LTCC HTCC, το πολύ χαμηλότερο κόστος παραγωγής είναι το υψηλό χαρακτηριστικό του.
Σας παρακαλούμεεπικοινωνήστε μαζί μαςεάν θέλετε να μάθετε περισσότερα για την τεχνολογία και τη μηχανή.
Το πρώτο μηχάνημα σε εφαρμογή DPC στην Κίνα
Ιστορικό και Εισαγωγή Έργου:
1. Τον Αύγουστο του 2016, λάβαμε αίτημα πελάτη και ξεκινήσαμε την Ε&Α της διαδικασίας επίστρωσης
2. Τον Απρίλιο του 2017, το μηχάνημα εγκαταστάθηκε στο χώρο του πελάτη με επιτυχία.
3. Το 2018, βελτιώσαμε το σχεδιασμό και τις δομές, το μοντέλο DPC1215+, παραδόθηκαν 2 σετ στον πελάτη στο τέλος του 2018
Μοντέλο μηχανής: RT1200-DPC
Τεχνολογία:PVD+PECVD
Τοποθεσία:Κίνα
Εφαρμογή: Κεραμικά (Al3O2, AlN), γυάλινα και υποστρώματα Si,
Η ομάδα τεχνολογίας Royal συνεργάστηκε με τον πελάτη μας για την ανάπτυξη της διαδικασίας DPC με επιτυχία με την τεχνολογία PVD sputtering από το έτος 2016.
Η διαδικασία DPC- Direct Plating Copper είναι μια προηγμένη τεχνολογία επίστρωσης που εφαρμόζεται με βιομηχανίες LED, ημιαγωγών και ηλεκτρονικών.Μια τυπική εφαρμογή είναι το Ceramic Radiating Substrate.Εναπόθεση αγώγιμου φιλμ χαλκού σε υποστρώματα οξειδίου του αργιλίου (Al2O3), AlN με τεχνολογία PVD κενού sputtering, σε σύγκριση με τις παραδοσιακές μεθόδους κατασκευής: DBC LTCC HTCC, το πολύ χαμηλότερο κόστος παραγωγής είναι το υψηλό χαρακτηριστικό του.
Σας παρακαλούμεεπικοινωνήστε μαζί μαςεάν θέλετε να μάθετε περισσότερα για την τεχνολογία και τη μηχανή.
