Η τεχνολογία επικάλυψης Magnetron Sputtering επιτρέπει την υψηλή ζήτηση για καθρέφτες λόγω του γρήγορου ρυθμού εναπόθεσης.
Απίθανο το εν σειρά σύστημα ψεκασμού, το χαμηλό κόστος παραγωγής καθιστά δυνατό για τους επιχειρηματίες που σκοπεύουν να ξεκινήσουν την επιχείρηση με χαμηλή επένδυση.
Βασικά χαρακτηριστικά:
Υψηλή ισχύς και μεγάλη ικανότητα μπάνιου. Ηλιακόι συλλέκτες υψηλής διαφάνειας, ηλεκτρικά αγώγιμοι, υψηλής ανακλαστικότητας, επιλεκτικά ανακλαστικοί αντιδιαβρωτικοί, αντιθαμβωτικό μπλε.
Γενικές πληροφορίες
Έχουν αναπτυχθεί και πιστοποιηθεί διάφορες διαδικασίες επίστρωσης για καθρέπτες αυτοκινήτων.Χρώμιο PVD
η επίστρωση σε υποστρώματα από γυαλί επίπλευσης καθώς το στρώμα ανάκλασης επιτυγχάνεται με διασκορπισμό DC-Magnetron.
Η χρωματική εμφάνιση των στρωμάτων μπορεί να δημιουργηθεί με την εισαγωγή δραστικών αερίων, όπως το αργό, το οξυγόνο και το άζωτο.
Τεχνικές προδιαγραφές
|
Περιγραφή |
Για καθρέφτη αυτοκινήτου | Για τροχούς αυτοκινήτου | ||
| RTSP1400-PLUS | RTSP900 | RTSP1400 | RTSP1800 | |
| Διαθέσιμοι στόχοι | Χρώμιο, αλουμίνιο, ανοξείδωτο ατσάλι, χαλκός, ορείχαλκος, τιτάνιο, ασήμι κ.λπ. | |||
|
Χωρητικότητα
|
Μέγιστη.4,86 τ.μ |
Μέγιστη.Μέγεθος: 27" x 1 Μονάδα
|
Μέγιστη.μέγεθος 25" x 4 μονάδες Μέγιστη.Μέγεθος: 27" x 2 Μονάδες |
Μέγιστη.μέγεθος 22" x 8 μονάδες
|
| Επιμελητήριο Κατάθεσης |
φ1400 *Υ1600mm
|
φ900 * H900mm
|
φ1400 * H1600mm
|
φ1800 * Υ1800mm
|
|
Διάμετρος φορτίου (Μέγιστη.) |
6*φ360mm | 1 άξονας | 1 άξονας |
4 άξονες * φ560mm
|
| Ύψος φορτίου (Αποτελεσματικό) |
1200 mm | 700 χλστ | 1100 χλστ | 1400 χλστ |
| Πηγές κατάθεσης |
4 σετ κυλίνδρου sputter 1 σετ επίπεδης εκτόξευσης |
2 σετ επίπεδης ψεκασμού W125*L850mm | 2 σετ επίπεδης ψεκασμού W125*L1350mm | 2 σετ επίπεδης ψεκασμού W125*L1650mm |
| Sputtering Power | Μέγιστη.40 KW | Μέγιστη.30 KW | Μέγιστη.40 KW | Μέγιστη.60 KW |
| Σύστημα Λειτουργίας & Ελέγχου |
Πρότυπο CE Οθόνη αφής Mitsubishi PLC+ Πρόγραμμα λειτουργίας με αντίγραφο ασφαλείας
|
|||
Τι είναι η τεχνολογία sputtering magnetron;
Η διασκορπισμός με μαγνήτρο είναι μια άλλη μορφή τεχνολογίας επίστρωσης PVD.
Επικάλυψη πλάσματος
Η εκτόξευση μαγνητρονίων είναι μια διαδικασία επικάλυψης πλάσματος κατά την οποία το υλικό εκτόξευσης εκτοξεύεται λόγω βομβαρδισμού ιόντων στην επιφάνεια στόχο.Ο θάλαμος κενού της μηχανής επίστρωσης PVD είναι γεμάτος με ένα αδρανές αέριο, όπως αργό.Με την εφαρμογή υψηλής τάσης, δημιουργείται εκκένωση λάμψης, με αποτέλεσμα την επιτάχυνση των ιόντων στην επιφάνεια στόχο και μια επικάλυψη πλάσματος.Τα ιόντα αργού θα εκτοξεύσουν τα υλικά εκτόξευσης από την επιφάνεια του στόχου (ssputtering), με αποτέλεσμα ένα διασκορπισμένο στρώμα επικάλυψης στα προϊόντα μπροστά από τον στόχο.
Αντιδραστική εκτόξευση
Συχνά χρησιμοποιείται ένα πρόσθετο αέριο όπως άζωτο ή ακετυλένιο, το οποίο θα αντιδράσει με το εκτοξευόμενο υλικό (αντιδραστική εκτόξευση).Με αυτήν την τεχνική επίστρωσης PVD είναι δυνατή μια ευρεία γκάμα επιστρώσεων με διασκορπισμό.Η τεχνολογία διασκορπισμού μαγνητρονίου είναι πολύ πλεονεκτική για την επιφανειακή επίστρωση (π.χ. νιτρίδια Ti, Cr, Zr και άνθρακα), λόγω της λείας φύσης της.Το ίδιο πλεονέκτημα κάνει το sputtering magnetron να χρησιμοποιείται ευρέως για τριβολογική επίστρωση στις αγορές αυτοκινήτων (π.χ. CrN, Cr2Ν και διάφοροι συνδυασμοί με επίστρωση DLC - επίστρωση Diamond Like Carbon).
Μαγνητικά πεδία
Η διασκορπισμός μαγνητρονίων είναι κάπως διαφορετική από τη γενική τεχνολογία sputtering.Η διαφορά είναι ότι η τεχνολογία sputtering magnetron χρησιμοποιεί μαγνητικά πεδία για να κρατήσει το πλάσμα μπροστά από τον στόχο, εντείνοντας τον βομβαρδισμό των ιόντων.Ένα εξαιρετικά πυκνό πλάσμα είναι το αποτέλεσμα αυτής της τεχνολογίας επίστρωσης PVD.
Η τεχνολογία sputtering Magnetron χαρακτηρίζεται από:
