Η ηλεκτρονική Cooper που ψεκάζει το σύστημα/η στρατιωτική ηλεκτρονική πελεκά τον άμεσα καλύπτοντας ψεκάζοντας εξοπλισμό χαλκού
Magnetron του Cooper ψεκάζοντας εγκαταστάσεις επιστρώματος στη στρατιωτική ηλεκτρονική
Ο DPC άμεσος χαλκός επένδυσης διαδικασίας είναι μια προηγμένη τεχνολογία επένδυσης που εφαρμόζεται με των οδηγήσεων/τον ημιαγωγό/τις ηλεκτρονικές βιομηχανίες. Μια χαρακτηριστική εφαρμογή είναι κεραμική ακτινοβολώντας το υπόστρωμα.
Αγώγιμη απόθεση ταινιών του Cooper Al2O3, AlN, Si, υποστρώματα γυαλιού από PVD την κενή τεχνολογία επιμετάλλωσης, έναντι των παραδοσιακών μεθόδων κατασκευής: DBC LTCC HTCC, τα χαρακτηριστικά γνωρίσματα:
1. Πολύ χαμηλότερο κόστος παραγωγής.
2. Σημαντική θερμική απόδοση διαχείρισης και θερμότητα-μεταφοράς
3. Ακριβές σχέδιο ευθυγράμμισης και σχεδίων,
4. Υψηλή πυκνότητα κυκλωμάτων
5. Καλά προσκόλληση και solderability
Η βασιλική ομάδα τεχνολογίας βοήθησε τον πελάτη μας ανέπτυξε τη DPC διαδικασία επιτυχώς με την τεχνολογία επιμετάλλωσης PVD.
Λόγω της προηγμένης απόδοσής του, τα DPC υποστρώματα χρησιμοποιούνται ευρέως στις διάφορες εφαρμογές:
Υψηλών οδηγήσεων φωτεινότητας για να αυξήσει το μακράς διαρκείας χρόνο λόγω της υψηλής απόδοσης ακτινοβολίας θερμότητας, του εξοπλισμού ημιαγωγών, της ασύρματης επικοινωνίας μικροκυμάτων, της στρατιωτικής ηλεκτρονικής, των διάφορων υποστρωμάτων αισθητήρων, του αεροδιαστήματος, της μεταφοράς σιδηροδρόμων, της δύναμης ηλεκτρικής ενέργειάς του, κ.λπ.
Rtac1215-SP ο εξοπλισμός σχεδιάζεται αποκλειστικά για DPC τη διαδικασία που παίρνουν το στρώμα βαρελοποιών στα υποστρώματα. Αυτός ο εξοπλισμός χρησιμοποιεί τη φυσική αρχή απόθεσης ατμού PVD, με τις ιονικές τεχνικές επένδυσης πολυ-τόξων και magnetron επιμετάλλωσης για να ληφθεί η ιδανική ταινία με την υψηλή πυκνότητα, την υψηλή αντίσταση γδαρσίματος, την υψηλή σκληρότητα και την ισχυρή σύνδεση στο υψηλό κενό περιβάλλον. Είναι το κρίσιμο βήμα για DPC υπολοίπου τη διαδικασία.
Κύρια χαρακτηριστικά μηχανών επιστρώματος χαλκού ψεκάζοντας
1. Εξοπλισμένος με 8 καθόδους τόξων ταύρων και τις ΣΥΝΕΧΕΙΣ ψεκάζοντας καθόδους, ψεκάζοντας κάθοδοι MF, ιονική μονάδα πηγής.
2. Πολυστρωματικό και επίστρωμα ομο-απόθεσης διαθέσιμο
3. Η ιονική πηγή για την προγενέστερη επεξεργασία και τη δέσμη ιόντων καθαρισμού πλάσματος βοήθησε την απόθεση για να ενισχύσει την προσκόλληση ταινιών.
4. Κεραμικά Al2O3/AlN υποστρώματα που θερμαίνουν επάνω τη μονάδα
5. Σύστημα περιστροφής και επαναστάσεων υποστρωμάτων, για 1 δευτερεύον επίστρωμα και την επένδυση 2 πλευρών.
Προδιαγραφές μηχανών επιστρώματος επιμετάλλωσης χαλκού
Απόδοση
1. Τελευταία κενή πίεση: καλύτερα από 5.0×10-6 Torr.
2. Λειτουργούσα κενή πίεση: 1.0×10-4 Torr.
3. Χρόνος Pumpingdown: από 1 ATM σε 1.0×10-4 Torr≤ 3 λεπτά (ξηράς, καθαρής και κενής αίθουσα θερμοκρασίας δωματίου,)
4. Υλικό Metalizing (που ψεκάζει + εξάτμιση τόξων): Νι, $cu, άργυρος, Au, Tj, Zr, χρώμιο κ.λπ.
5. Λειτουργούν πρότυπο: Το πλήρες αυτόματα /Semi-Auto/ με το χέρι
Δομή
Η μηχανή κενού επιστρώματος περιέχει το βασικό ολοκληρωμένος σύστημα που απαριθμείται κατωτέρω:
1. Κενή αίθουσα
2. Κενό αντλώντας σύστημα Rouhging (υποστηρίζοντας συσκευασία αντλιών)
3. Υψηλό κενό αντλώντας σύστημα (μαγνητικά μοριακή αντλία αναστολής)
4. Ηλεκτρικό σύστημα ελέγχου και λειτουργίας
5. Σύστημα δυνατότητας Auxiliarry (υποσύστημα)
6. Σύστημα απόθεσης
Δείγματα επένδυσης χαλκού
Παρακαλώ μας ελάτε σε επαφή με για περισσότερες προδιαγραφές, η βασιλική τεχνολογία είναι τιμημένη για να σας παρέχει συνολικές λύσεις επιστρώματος.
Μεταφορτώστε το φυλλάδιο, παρακαλώ χτυπήστε εδώ: Άμεσο magnetro συνεχούς ρεύματος και MF μηχανών χαλκού επένδυσης…
