Κενή μηχανή απόθεσης PVD + PECVD, Polyhedron εξοπλισμός δομών PVD, πολλαπλές πηγές απόθεσης
Multi950 ιδιότητες μηχανών:
Συμπαγές ίχνος,
Τυποποιημένο μορφωματικό σχέδιο,
Εύκαμπτος,
Αξιόπιστος,
Οκταδική αίθουσα,
δομή 2 πορτών για την καλή πρόσβαση,
Διαδικασίες PVD + PECVD.
Χαρακτηριστικά σχεδιασμού:
1. Ευελιξία: Το τόξο και οι ψεκάζοντας κάθοδοι, ιονικές να τοποθετήσουν πηγής φλάντζες είναι τυποποιημένα για την ευέλικτη ανταλλαγή
2. Μεταβλητότητα: μπορέστε να καταθέσετε την ποικιλία των βασικών μετάλλων και των κραμάτων οπτικά επιστρώματα, σκληρά επιστρώματα, μαλακά επιστρώματα, σύνθετες ταινίες και στερεές λαδώνοντας ταινίες στα μεταλλικά και μη μεταλλικά υποστρώματα υλικών.
3. Απλό σχέδιο: δομή, μέτωπο & πλάτη 2 πορτών που ανοίγουν για την εύκολη συντήρηση.
Η μηχανή Multi950 είναι ένα προσαρμοσμένο πολλαπλάσιο σύστημα απόθεσης λειτουργιών κενό για την Ε&Α. Με τη συζήτηση του μισού έτους με την ομάδα του πανεπιστημίου της Σαγκάη μολυβδούχο από τον καθηγητή Chen, επιβεβαιώσαμε τελικά το σχέδιο και τις διαμορφώσεις για να εκπληρώσουμε δικοί τους εφαρμογές Ε&Α. Αυτό το σύστημα είναι σε θέση να καταθέσει τη διαφανή ταινία DLC με τη διαδικασία PECVD, τα σκληρά επιστρώματα στα εργαλεία, και την οπτική ταινία με την επιμετάλλωση της καθόδου. Με βάση αυτήν την πειραματική έννοια σχεδίου μηχανών, έχουμε αναπτύξει 3 άλλα συστήματα επιστρώματος μετά από έπειτα:
1. Διπολικό επίστρωμα πιάτων για τα ηλεκτρικά οχήματα FCEV1213 κυττάρων καυσίμου,
2. Κεραμικός άμεσος καλυμμένος χαλκός DPC1215,
3. Εύκαμπτο ψεκάζοντας σύστημα RTSP1215.
Η μηχανή αυτών των 4 προτύπων είναι όλες με την οκταδική αίθουσα, οι εύκαμπτες και αξιόπιστες αποδόσεις χρησιμοποιούνται εκτενώς στις διάφορες εφαρμογές. Ικανοποιεί τις διαδικασίες επιστρώματος απαιτεί τα πολυ διαφορετικά στρώματα μετάλλων: Al, χρώμιο, $cu, Au, άργυρος, Νι, Sn, SS και πολλά άλλα μη-feeromagnetic μέταλλα
συν την ιονική πηγή η μονάδα, ενισχύει αποτελεσματικά την προσκόλληση ταινιών στα διαφορετικά υλικά υποστρωμάτων με την απόδοση χαρακτικής πλάσματός της και, η διαδικασία PECVD για να καταθέσει μερικά άνθρακας-βασισμένα στρώματα.
Το Multi950 είναι το κύριο σημείο των προηγμένων συστημάτων επιστρώματος σχεδίου για τη βασιλική τεχνολογία. Εδώ, ευγνώμονες φοιτητές πανεπιστημίου της Σαγκάη ευχαριστιών και ειδικά διαδικασία Yigang Chen, η δημιουργική και ανιδιοτελής αφιέρωσή του είμαστε απεριόριστες τιμές και εμπνεσμένος την ομάδα μας.
Στο έτος 2018, είχαμε μια άλλη συνεργασία προγράμματος με Pressor Chen, η υλική απόθεση γ-60 κοντά
Επαγωγική θερμική μέθοδος εξάτμισης. Ευχαριστούμε heartfully τον κ. Yimou Yang και τον καθηγητή Chen's οδήγηση και επιμόρφωση για κάθε καινοτόμο πρόγραμμα.
Multi950 - τεχνικές προδιαγραφές
| Περιγραφή | Πολυ-950 |
|
Αίθουσα απόθεσης (χιλ.) Πλάτος Χ βάθος Χ Heigh |
1050 X 950 X 1350 |
|
Πηγές απόθεσης |
1 ζευγάρι των ψεκάζοντας καθόδων MF |
| 1 ζευγάρι PECVD | |
| κάθοδοι τόξων 8 συνόλων | |
| Γραμμική ιονική πηγή | 1 σύνολο |
| Ζώνη ομοιομορφίας πλάσματος (χιλ.) | φ650 Χ H750 |
| Ιπποδρόμιο | 6 Χ φ300 |
|
Δυνάμεις (KW) |
Προκατάληψη: 1 X 36 |
| MF: 1 X 36 | |
| PECVD: 1 x36 | |
| Τόξο: 8 X 5 | |
| Ιονική πηγή: 1 X 5 | |
| Σύστημα ελέγχου αερίου | MFC: 4 + 1 |
| Σύστημα θέρμανσης | 500℃, με τον έλεγχο thermalcouple PID |
| Υψηλή κενή βαλβίδα πυλών | 2 |
| Αντλία Turbomolecular | 2 Χ 2000L/S |
| Αντλία ριζών | 1 Χ 300L/S |
| Περιστροφική Vanes αντλία | 1 X 90 μ ³ /h + 1 X 48 μ ³ /h |
| Ίχνος (Λ Χ W Χ Χ) χιλ. | 3000 * 4000 * 3200 |
| Συνολική δύναμη (KW) | 150 |
Οι ομάδες υπηρεσιών και εφαρμοσμένης μηχανικής της βασιλικής τεχνολογίας παρέχουν τη υποστήριξη πελατών onsite, μας έρχονται σε επαφή με για τις αιτήσεις σας!
