Να στείλετε μήνυμα

Μηχανή επίστρωσης DC Magnetron Sputtering, Unbalanced Planar Sputtering Coating System

1 ομάδα
MOQ
negotiable
τιμή
Μηχανή επίστρωσης DC Magnetron Sputtering, Unbalanced Planar Sputtering Coating System
Χαρακτηριστικά Εκθεσιακός χώρος Περιγραφή προϊόντων Ζητήστε ένα απόσπασμα
Χαρακτηριστικά
Προδιαγραφές
Αίθουσα: Κάθετος προσανατολισμός, 2 πόρτες
Υλικό: Ανοξείδωτο 304/316
Πηγές απόθεσης: ΣΥΝΕΧΗΣ ψεκάζοντας κάθοδος
Τεχνική: PVD, ισορροπημένη/θιγμένη ψεκάζοντας κάθοδος Magentron
Εφαρμογές: διακοσμήσεις του κοσμήματος, ρολόι, αγώγιμο επίστρωμα ταινιών, ταινία μετάλλων, ηλεκτρονική, κύτταρο
Χαρακτηριστικά γνωρίσματα ταινιών: αντοχή, ισχυρή προσκόλληση, διακοσμητικά χρώματα επιστρώματος
Θέση εργοστασίων: Πόλη της Σαγκάη, Κίνα
Παγκόσμια υπηρεσία: Πολωνία - Ευρώπη Δυτική Ασία του Ιράν & Μέση Ανατολή, Τουρκία, Ινδία, Μεξικό Νότια Αμερική
Εκπαιδευτική υπηρεσία: Λειτουργία μηχανών, συντήρηση, που ντύνει τις συνταγές διαδικασίας, πρόγραμμα
Εξουσιοδότηση: Περιορισμένη εξουσιοδότηση 1 έτος δωρεάν, ολόκληρη ζωή για τη μηχανή
COEM & ODM: διαθέσιμοι, υποστηρίζουμε το κατάλληλες σχέδιο και την επεξεργασία
Υψηλό φως:

magnetron sputtering equipment

,

vacuum deposition equipment

Βασικές πληροφορίες
Τόπος καταγωγής: Made in China
Μάρκα: ROYAL
Πιστοποίηση: CE certification
Αριθμό μοντέλου: RTSP1200
Πληρωμής & Αποστολής Όροι
Συσκευασία λεπτομέρειες: Πρότυπα εξαγωγής, που συσκευάζονται στις καινούργιες περιπτώσεις/τα χαρτοκιβώτια, κατάλληλες για το
Χρόνος παράδοσης: 12 εβδομάδες
Όροι πληρωμής: L/C, T/T
Δυνατότητα προσφοράς: 6 σύνολα το μήνα
Περιγραφή προϊόντων

 

 

DC Magnetron Sputtering Coating Machine / DC Sputtering System

 

Μοντέλα Magnetron Sputtering: DC Sputtering, MF Sputtering, RF Sputtering

 

Τι είναι το DC Sputtering;

 

Το DC Sputtering χρησιμοποιείται κυρίως για την εκτόξευση στόχων καθαρού μετάλλου όπως: χρώμιο, τιτάνιο, αλουμίνιο, χαλκός, ανοξείδωτος χάλυβας, νίκελ, ασήμι, χρυσός για φιλμ υψηλής αγωγιμότητας.

 

Το DC Sputtering είναι μια τεχνική επικάλυψης με φυσική εναπόθεση ατμού (PVD) λεπτής μεμβράνης, όπου ένα υλικό στόχος που θα χρησιμοποιηθεί ως επίστρωση βομβαρδίζεται με μόρια ιονισμένου αερίου προκαλώντας την «εκτόξευση» ατόμων στο πλάσμα.Αυτά τα εξατμισμένα άτομα στη συνέχεια εναποτίθενται όταν συμπυκνώνονται ως λεπτή μεμβράνη στο υπόστρωμα που πρόκειται να επικαλυφθεί.

 

Το DC Sputtering είναι ο πιο βασικός και φθηνός τύπος ψεκασμού για την εναπόθεση μετάλλων PVD και τα ηλεκτρικά αγώγιμα υλικά επίστρωσης στόχου.Δύο βασικά πλεονεκτήματα του DC ως πηγής ισχύος για αυτή τη διαδικασία είναι ότι είναι εύκολο να ελεγχθεί και είναι μια επιλογή χαμηλού κόστους εάν κάνετε εναπόθεση μετάλλων για επίστρωση.

Το DC Sputtering χρησιμοποιείται εκτενώς στη βιομηχανία ημιαγωγών δημιουργώντας κυκλώματα μικροτσίπ σε μοριακό επίπεδο.Χρησιμοποιείται για επιστρώσεις χρυσού κοσμημάτων, ρολογιών και άλλων διακοσμητικών φινιρισμάτων, για μη ανακλαστικές επικαλύψεις σε γυαλί και οπτικά εξαρτήματα, καθώς και για μεταλλοποιημένα πλαστικά συσκευασίας, καθρέπτες αυτοκινήτου, ανακλαστήρες φωτισμού αυτοκινήτου, τροχούς και πλήμνες αυτοκινήτου κ.λπ.

 

Μηχάνημα επίστρωσης DC Magnetron SputteringΕκτέλεση

1. Τελική πίεση κενού: καλύτερη από 5,0×10-6Torr.

2. Πίεση κενού λειτουργίας: 1,0×10-4Torr.

3. Pumpingdown Time: από 1 atm έως 1,0×10-4Torr≤ 3 λεπτά (θερμοκρασία δωματίου, στεγνός, καθαρός και άδειος θάλαμος)

4. Υλικό επιμετάλλωσης (διασκορπισμός + εξάτμιση τόξου): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrC, κ.λπ.

5. Μοντέλο λειτουργίας: Πλήρης Αυτόματα /Ημιαυτόματο/ Χειροκίνητα

 

DC Magnetron Sputtering Coating Δομή μηχανής

Το μηχάνημα επίστρωσης κενού περιέχει το βασικό ολοκληρωμένο σύστημα που παρατίθεται παρακάτω:

1. Θάλαμος κενού

2. Σύστημα άντλησης κενού Rouhging (Πακέτο αντλίας υποστήριξης)

3. Σύστημα άντλησης υψηλού κενού (Μοριακή αντλία μαγνητικής ανάρτησης)

4. Σύστημα Ηλεκτρικού Ελέγχου και Λειτουργίας

5. Σύστημα Βοηθητικής Εγκατάστασης (Υποσύστημα)

6. Σύστημα εναπόθεσης: κάθοδος διασκορπισμού συνεχούς ρεύματος, τροφοδοτικό συνεχούς ρεύματος, πηγή ιόντων τροφοδοσίας προκατάληψης για προαιρετική

 

Μηχάνημα επίστρωσης DC Magnetron SputteringΠροδιαγραφές

RTSP1250-DC
ΜΟΝΤΕΛΟ RTSP1250-DC
ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑ Επιμετάλλωση με μαγνήτρο (DC) + επιμετάλλωση ιόντων
ΥΛΙΚΟ Ανοξείδωτος χάλυβας (S304)
ΜΕΓΕΘΟΣ ΘΑΛΑΜΟΥ Φ1250*H1250mm
ΤΥΠΟΣ ΘΑΛΑΜΟΥ Κύλινδρος, κάθετος, 1θυρο
ΣΥΣΤΗΜΑ ΕΠΙΔΡΟΜΗΣ Αποκλειστική σχεδίαση για εναπόθεση λεπτού μαύρου φιλμ
ΥΛΙΚΟ ΚΑΤΑΘΕΣΗ Αλουμίνιο, Ασήμι, Χαλκός, Χρώμιο, Ανοξείδωτο ατσάλι, Νικέλιο, Τιτάνιο
ΠΗΓΗ ΚΑΤΑΘΕΣΕΩΝ Κυλινδρικοί / Επίπεδοι Στόχοι Διασκορπισμού + 7 Πηγές Κατευθυνόμενου Καθοδικού Τόξου
ΑΕΡΙΟ MFC- 4 τρόποι, Ar, N2, O2, C2H2
ΕΛΕΓΧΟΣ PLC (Programmable Logic Controller) +
Οθόνη αφής
ΣΥΣΤΗΜΑ ΑΝΤΛΙΑΣ SV300B - 1 σετ (Leybold)
WAU1001 - 1 σετ (Leybold)
D60T- 2 σετ (Leybold)
Turbo Molecular Pumps: 2* F-400/3500
ΠΡΟΕΡΓΑΣΙΑ Τροφοδοτικό προκατάληψης: 1*36 KW
ΣΥΣΤΗΜΑ ΑΣΦΑΛΕΙΑΣ Πολυάριθμες κλειδαριές ασφαλείας για την προστασία των χειριστών
και εξοπλισμός
ΨΥΞΗ Κρύο νερό
ΗΛΕΚΤΡΟΛΟΓΙΚΟΣ ΙΣΧΥΟΣ 480V/3 φάσεις/60HZ (συμβατό με ΗΠΑ)
460V/3 φάσεις/50HZ (συμβατό με την Ασία)
380V/3 φάσεις/50HZ (συμβατό με EU-CE)
ΙΧΝΟΣ Μ3000*Π3000*Υ2000mm
ΣΥΝΟΛΙΚΟ ΒΑΡΟΣ 7,0 Τ
ΙΧΝΟΣ ( Μ*Π*Υ) 5000*4000 *4000 ΧΜ
ΧΡΟΝΟΣ ΚΥΚΛΟΥ 30~40 λεπτά (ανάλογα με το υλικό του υποστρώματος,
γεωμετρία υποστρώματος και συνθήκες περιβάλλοντος)
ΜΕΓΙΣΤΗ ΙΣΧΥΣ.. 155 KW
ΜΕΣΗ ΚΑΤΑΝΑΛΩΣΗ ΡΕΥΜΑΤΟΣ (ΠΕΡΙΠ.) 75 KW

 

Έχουμε περισσότερα μοντέλα για την επιλογή σας!

Μηχανή επίστρωσης DC Magnetron Sputtering, Unbalanced Planar Sputtering Coating System 0

 

Επικοινωνήστε μαζί μας για περισσότερες προδιαγραφές, η Royal Technology έχει την τιμή να σας παρέχει ολοκληρωμένες λύσεις επίστρωσης.

 

Συνιστώμενα προϊόντα
Ελάτε σε επαφή μαζί μας
Φαξ : 86-21-67740022
Χαρακτήρες Λοιπά(20/3000)